PVD-Sputter-Cluster (IMS-01)
Angebotsfrist:24. Oktober 2025(abgelaufen)
Typ:Ausschreibung
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PVD-Sputter-Cluster (IMS-01)
PVD-Sputter-Cluster (IMS-01)
Nach Registrierung stehen Unterlagen, Fristen und Hinweise zur Einreichung strukturiert bereit.
Lieferung und Installation einer kombinierten Atomic Layer und Sputter Deposition Anlage (ALD/PVD)
Wafer Prober (IMS-04)
Dünnschicht-Cluster-Beschichtungsanlage für das Sputtern von Metallen und Dielektrika Clusteranlage mit einer Schleuse und 4 Prozesskammern (PCs) für das DC- und RF-Sputtern von Dielektrika und Metallen auf Halbleiter- und anderen Substraten. Details entnehmen Sie bitte unserer Spezifikation.
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