Waferreiniger / Maskenreiniger (IAF-08.3)
Beschaffung eines Wafer- und Maskenreinigungsgeräts für einen Reinraum der ISO-Klasse 4. Das Gerät muss europäischen Sicherheitsvorschriften entsprechen und Wafer sowie Lithographie-Masken mittels RCA-Prozess (wässrige/saure Lösungen) reinigen. Anforderungen: Prozesskammer aus medienresistentem Material, Absaugung, Lec...
Angebotsfrist:05. Mai 2026
Typ:Ausschreibung