Technische Universität München·
Ionenstrahl Strukturierungsgerät
Beschaffung eines Nanofabrikationssystems mit vertikaler Mehrfach-Ionenstrahl-Säulentechnologie.
Angebotsfrist:02. Mai 2026
Typ:Ausschreibung
Laborinstrumente
Beschaffung eines Nanofabrikationssystems mit vertikaler Mehrfach-Ionenstrahl-Säulentechnologie.
Angebotsfrist:02. Mai 2026
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Beschaffung eines Nanofabrikationssystems mit vertikaler Mehrfach-Ionenstrahl-Säulentechnologie.
Beschaffung eines Nanofabrikationssystems mit vertikaler Mehrfach-Ionenstrahl-Säulentechnologie.
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Ein Nanofabrikationssystem mit vertikaler Mehrfach-Ionenstrahl-Säulentechnologie.
Beschaffung einer Ionenstrahl-Ätzanlage für 300mm-Wafer am Fraunhofer IPMS. Das System ist für die CMOS-Wafer-Bearbeitung in einer Reinraumumgebung der Klasse 1000 (ca. Klasse 6 nach EN ISO 14644-1) vorgesehen. Die Anlage muss die Industriestandards hinsichtlich Metallkontamination und Partikelgenerierung erfüllen.
Beschaffung von Imaging-Systemen für die Modernisierung des Heidelberger Ionenstrahl-Therapiezentrums (HIT). Erforderlich sind drei Einheiten (Lieferung 2026, 2029, 2030) zur Positionsüberprüfung und -korrektur in der Protonen-/Ionenbestrahlung. Das System muss in klinischen Workflow, Bewegungsmanagement und Behandlungssteuerung integrierbar sein und sichere Schnittstellen für Steuerung, Bildaufnahme und Statusrückmeldungen bereitstellen. Ein Simulator für Entwicklung und Tests ist ebenfalls erforderlich.
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