Clustertool for Ion Beam Etching of 300mm wafers

Beschaffung einer Ionenstrahl-Ätzanlage für 300mm-Wafer am Fraunhofer IPMS. Das System ist für die CMOS-Wafer-Bearbeitung in einer Reinraumumgebung der Klasse 1000 (ca. Klasse 6 nach EN ISO 14644-1) vorgesehen. Die Anlage muss die Industriestandards hinsichtlich Metallkontamination und Partikelgenerierung erfüllen.