Chlor ICP mit ALE Erweiterung (IAF-07a.1)
Angebotsfrist:05. März 2026(abgelaufen)
Typ:Ausschreibung
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Chlor ICP mit ALE Erweiterung (IAF-07a.1)
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Nach Registrierung stehen Unterlagen, Fristen und Hinweise zur Einreichung strukturiert bereit.
Beschaffung eines Cluster-Systems für ALD (Atomic Layer Deposition), PECVD (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition) und ICP-CVD (Inductively Coupled Plasma Chemical Vapor Deposition). Das System umfasst die Module IAF-05.1, IAF-05.2, IAF-05.3, IAF-05.4 und IAF-05.5.
Das Fraunhofer IAF beschafft ein Cluster-System zur Dünnschichtabscheidung. Das System muss mit ALD-, PECVD- und ICP-CVD-Prozesskammern ausgestattet sein und für die Bearbeitung von 150-mm-Wafern ausgelegt sein. Der Lieferumfang umfasst ein Cluster-System.
1 Stück Evaporation system Das Fraunhofer IAF plant die Anschaffung einer Elektronenstrahl-Verdampfungsanlage für die Metallverdampfung. Die Anlage soll für die Bearbeitung von 150-mm-Wafern geeignet sein.
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