Das Fraunhofer IAF beschafft einen Hochtemperatur-Glühofen für thermische Prozesse. Der Temperaturbereich reicht von Raumtemperatur bis 1000 °C. Das System muss für die Bearbeitung von 100 mm und 150 mm Wafern ausgelegt sein. Als Prozessgase bei atmosphärischem Druck sind N2 und O2 vorgesehen.
Typ:Ausschreibung
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Das Fraunhofer IAF beschafft einen Hochtemperatur-Glühofen für thermische Prozesse. Der Temperaturbereich reicht von Raumtemperatur bis 1000 °C. Das System muss für die Bearbeitung von 100 mm und 150 mm Wafern ausgelegt sein. Als Prozessgase bei atmosphärischem Druck sind N2 und O2 vorgesehen.
Das Fraunhofer IAF beschafft einen Hochtemperatur-Glühofen für thermische Prozesse. Der Temperaturbereich reicht von Raumtemperatur bis 1000 °C. Das System muss für die Bearbeitung von 100 mm und 150 mm Wafern ausgelegt sein. Als Prozessgase bei atmosphärischem Druck sind N2 und O2 vorgesehen.
Nach Registrierung stehen Unterlagen, Fristen und Hinweise zur Einreichung strukturiert bereit.
Das Fraunhofer IAF beschafft ein Cluster-System zur Dünnschichtabscheidung. Das System muss mit ALD-, PECVD- und ICP-CVD-Prozesskammern ausgestattet sein und für die Bearbeitung von 150-mm-Wafern ausgelegt sein. Der Lieferumfang umfasst ein Cluster-System.
1 Stück Evaporation system Das Fraunhofer IAF plant die Anschaffung einer Elektronenstrahl-Verdampfungsanlage für die Metallverdampfung. Die Anlage soll für die Bearbeitung von 150-mm-Wafern geeignet sein.
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