Beschaffung eines ALD-Systems (Dielektrikum) zur Abscheidung von Metallnitriden und dielektrischen Schichten mittels thermischem ALD auf 300-mm-Wafern. Anforderungen: Swap-Kit, Waferrotation, Dummy-Wafer-Speicher (min. 25), Notch-Aligner (≤0,5º/≤0,1mm), Kühlstation, Vorheizstation, Anschlüsse für In-situ-Metrologie (Ma...
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Beschaffung eines ALD-Systems (Dielektrikum) zur Abscheidung von Metallnitriden und dielektrischen Schichten mittels thermischem ALD auf 300-mm-Wafern. Anforderungen: Swap-Kit, Waferrotation, Dummy-Wafer-Speicher (min. 25), Notch-Aligner (≤0,5º/≤0,1mm), Kühlstation, Vorheizstation, Anschlüsse für In-situ-Metrologie (Massenspektroskopie...
Beschaffung eines ALD-Systems (Dielektrikum) zur Abscheidung von Metallnitriden und dielektrischen Schichten mittels thermischem ALD auf 300-mm-Wafern. Anforderungen: Swap-Kit, Waferrotation, Dummy-Wafer-Speicher (min. 25), Notch-Aligner (≤0,5º/≤0,1mm), Kühlstation, Vorheizstation, Anschlüsse für In-situ-Metrologie (Massenspektroskopie/Ellipsometrie), Rückseiten-Schutz, Quarz-Wafer-Handling. Inkl. BKM für thermisches ALD von SiO2 und Ta2O5 mit metallorganischen Precursoren.
Nach Registrierung stehen Unterlagen, Fristen und Hinweise zur Einreichung strukturiert bereit.
1 Stück ALD System (Dielectric) (IPMS-CNT06.1) Eine Anlage zum Aufbringen von Metallnitriden und dielektrischen Schichten mittels thermischer ALD-Verarbeitung auf Wafern mit einem Durchmesser von 300 mm. Details siehe Vergabeunterlagen. Optionale Positionen gemäß Technical Tender Specification (Phase 2 des Vergabeverfahrens)
ALD System (Dielectric) (IPMS-CNT06.1)
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