Zwei-Photonen-3D-Lithografie-Drucksystem FIRST-CLA an der ETH Zürich
Die FIRST-CLA-Plattform der ETH Zürich bittet um Angebote für den Kauf eines Zwei-Photonen-3D-Mikro- und Nanolithografiesystems. Das Gerät wird für folgende Zwecke eingesetzt: 1) 3D-Druck von Strukturen im Submikron- und Mikrometerbereich mit Nanometerauflösung und Nanometer-Oberflächenrauheit 2) 3D-Druck von Strukture...
Angebotsfrist:05. Februar 2026(abgelaufen)
Typ:Ausschreibung