Vergebener Auftrag ICP Trockenätzanlage Chlor IV (IAF-07b1)
Beschaffung einer Trockenätzanlage (Chlor ICP) für das IAF. Die Anlage muss kompatibel sein mit bestehenden Ätzprozessen für Wafer mit 150mm Durchmesser. Gefordert werden u.a. eine planare Plasmaquelle, eine Substratelektrode für 150mm-Wafer sowie Optionen für kleinere Wafer (100mm, 75mm). Zusätzlich werden diverse Ers...
Typ:Ausschreibung
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Inhalt auf einen Blick
Beschaffung einer Trockenätzanlage (Chlor ICP) für das IAF. Die Anlage muss kompatibel sein mit bestehenden Ätzprozessen für Wafer mit 150mm Durchmesser. Gefordert werden u.a. eine planare Plasmaquelle, eine Substratelektrode für 150mm-Wafer sowie Optionen für kleinere Wafer (100mm, 75mm). Zusätzlich werden diverse Ersatzteilkits und S...
- Ausschreibungstyp: Ausschreibung
- Auftraggeber: oben genannte Kontaktstelle
- Veröffentlicht: 29. April 2026
- Frist: Nicht angegeben
- Thema: Messtechnik
Ausschreibungsbeschreibung
Beschaffung einer Trockenätzanlage (Chlor ICP) für das IAF. Die Anlage muss kompatibel sein mit bestehenden Ätzprozessen für Wafer mit 150mm Durchmesser. Gefordert werden u.a. eine planare Plasmaquelle, eine Substratelektrode für 150mm-Wafer sowie Optionen für kleinere Wafer (100mm, 75mm). Zusätzlich werden diverse Ersatzteilkits und Serviceoptionen wie Garantierweiterung und beheizter Liner angeboten.
Weiterführende Details
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Dokumente und Anhänge
2 Dateien erfasst- VERGABE_FRH_documents.zip
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