Single Wafer ALD for TiN (IPMS-MRS05.1) - PR896468-2480-P
1 Stück Single Wafer ALD for TiN Es wird eine Einzelwafer-Atomschichtabscheidungsanlage für TiN sowie für Al2O3 und SiO2 adressiert. Das System muss mit einer ferngesteuerten Plasmaquelle entweder für den TiN-Prozess oder für die Vorbehandlung der Oberfläche direkt vor der ALD ausgestattet sein. Dieses System ist für z...
Angebotsfrist:30. April 2026
Typ:Ausschreibung