Beschaffung eines Single Chamber Cleaning Tools für die Halbleiterfertigung. Das System reinigt Photomasken, Wafer-Substrate (200/300 mm) und filmrahmenmontierte Wafer mittels Piranha/SC1-Chemie, Ultraschall oder Bürstenreinigung (Partikel >250 nm). Inkl. vertikalem Rotationsbürstensystem, programmierbarem Dosierarm, C...
Typ:Ausschreibung
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Beschaffung eines Single Chamber Cleaning Tools für die Halbleiterfertigung. Das System reinigt Photomasken, Wafer-Substrate (200/300 mm) und filmrahmenmontierte Wafer mittels Piranha/SC1-Chemie, Ultraschall oder Bürstenreinigung (Partikel >250 nm). Inkl. vertikalem Rotationsbürstensystem, programmierbarem Dosierarm, CO2-Injektion (5-1...
Beschaffung eines Single Chamber Cleaning Tools für die Halbleiterfertigung. Das System reinigt Photomasken, Wafer-Substrate (200/300 mm) und filmrahmenmontierte Wafer mittels Piranha/SC1-Chemie, Ultraschall oder Bürstenreinigung (Partikel >250 nm). Inkl. vertikalem Rotationsbürstensystem, programmierbarem Dosierarm, CO2-Injektion (5-15 µS), 0,003 µm Gasfilterung, Sicherheitsüberwachung und automatisierten Reinigungszyklen. Geeignet für aggressive Medien und hohe Substratverformungen (1500-2500 µm).
Nach Registrierung stehen Unterlagen, Fristen und Hinweise zur Einreichung strukturiert bereit.
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