Reactive ion etcher
Beschaffung von Plasmaätzanlagen (RIE/ICP-RIE) für die Mikro- und Nanofabrikation. Der Auftrag umfasst die Herstellung, den Vertrieb sowie den Service der Anlagen. Detaillierte technische Anforderungen und Spezifikationen sind dem beigefügten Lastenheft zu entnehmen.
Angebotsfrist:28. April 2026
Typ:Ausschreibung