Beschaffung eines spektroskopischen Ellipsometers zur Charakterisierung dielektrischer Schichten (SiO2, TiO2, Si3N4, AlN) für die QMI-Backend-Integration. Anforderungen: Wellenlängenbereich 300–1700 nm, spektrale Auflösung < 5 nm, vollautomatische 200-mm-Wafer-Bearbeitung (Kassette zu Kassette). Inklusive Offline-Softw...
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Beschaffung eines spektroskopischen Ellipsometers zur Charakterisierung dielektrischer Schichten (SiO2, TiO2, Si3N4, AlN) für die QMI-Backend-Integration. Anforderungen: Wellenlängenbereich 300–1700 nm, spektrale Auflösung < 5 nm, vollautomatische 200-mm-Wafer-Bearbeitung (Kassette zu Kassette). Inklusive Offline-Software für Materialm...
Beschaffung eines spektroskopischen Ellipsometers zur Charakterisierung dielektrischer Schichten (SiO2, TiO2, Si3N4, AlN) für die QMI-Backend-Integration. Anforderungen: Wellenlängenbereich 300–1700 nm, spektrale Auflösung < 5 nm, vollautomatische 200-mm-Wafer-Bearbeitung (Kassette zu Kassette). Inklusive Offline-Software für Materialmodellierung und Datenextraktion als Mehrbenutzerlizenz. Ziel ist die Materialentwicklung für ein PVD-Sputter-Cluster am Fraunhofer IMS.
Nach Registrierung stehen Unterlagen, Fristen und Hinweise zur Einreichung strukturiert bereit.
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