Beschaffung einer 300-mm-Wafer-Plattform mit Single-Wafer-Kammern für CVD-Prozesse (Si/Poly) sowie RTO/RTA-Funktionalitäten (Rapid Thermal Oxidation/Annealing).
Angebotsfrist:13. April 2026
Typ:Ausschreibung
Nächster Schritt
Erhalten Sie alle Dokumente zu "300 MM WAFER PLATFORM WITH SINGLE WAFER CHAMBERS CVD SI/POLY+ RTO/RTA" von Imec EU Pilot line NV und behalten Sie Fristen und Einreichungshinweise im Blick.
Ohne Kreditkarte · Sofortiger Zugang
Beschaffung einer 300-mm-Wafer-Plattform mit Single-Wafer-Kammern für CVD-Prozesse (Si/Poly) sowie RTO/RTA-Funktionalitäten (Rapid Thermal Oxidation/Annealing).
Beschaffung einer 300-mm-Wafer-Plattform mit Single-Wafer-Kammern für CVD-Prozesse (Si/Poly) sowie RTO/RTA-Funktionalitäten (Rapid Thermal Oxidation/Annealing).
Nach Registrierung stehen Unterlagen, Fristen und Hinweise zur Einreichung strukturiert bereit.
In weniger als 60 Sekunden erhalten Sie Vollzugang für 300 MM WAFER PLATFORM WITH SINGLE WAFER CHAMBERS CVD SI/POLY+ RTO/RTA.
Ohne Kreditkarte nutzbar
Sofort Zugriff auf Unterlagen und KI-Hinweise
Fristen und Folgeausschreibungen automatisch beobachten